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共聚焦白光干涉輪廓儀S lynx2 使用案例

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共聚焦白光干涉輪廓儀S lynx2 使用案例
通過具體的使用案例,可以更直觀地理解共聚焦白光干涉輪廓儀S lynx2在實(shí)際工作中的應(yīng)用方式和價(jià)值。以下是幾個(gè)假設(shè)的、基于常見應(yīng)用場(chǎng)景的案例描述。

產(chǎn)品型號(hào):
更新時(shí)間:2026-02-02
廠商性質(zhì):代理商
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共聚焦白光干涉輪廓儀S lynx2 使用案例

通過具體的使用案例,可以更直觀地理解共聚焦白光干涉輪廓儀S lynx2在實(shí)際工作中的應(yīng)用方式和價(jià)值。以下是幾個(gè)假設(shè)的、基于常見應(yīng)用場(chǎng)景的案例描述。
案例一:精密機(jī)械零件加工表面的質(zhì)量控制
  • 場(chǎng)景:一家生產(chǎn)液壓閥芯的精密加工企業(yè),需要確保閥芯圓柱工作面的表面粗糙度達(dá)到圖紙要求的Ra ≤ 0.1 μm,以保障密封性能。


  • 應(yīng)用:質(zhì)檢員定期從生產(chǎn)線上抽取閥芯樣品。將閥芯固定在S lynx2的樣品臺(tái)上,選擇合適的物鏡(如20X)將激光焦點(diǎn)對(duì)準(zhǔn)圓柱母線方向的一個(gè)區(qū)域。由于金屬閥芯表面通常經(jīng)過精磨,較為光滑,選擇白光干涉測(cè)量模式。設(shè)置合適的掃描范圍后啟動(dòng)測(cè)量。數(shù)秒內(nèi)即可獲得該區(qū)域的三維形貌圖。


  • 分析與結(jié)果:在軟件中,選取符合標(biāo)準(zhǔn)的評(píng)估區(qū)域,使用面粗糙度分析功能,計(jì)算Sa(三維算術(shù)平均高度)或?qū)?yīng)的二維輪廓參數(shù)Ra。軟件可自動(dòng)生成報(bào)告,顯示測(cè)量值、是否在規(guī)格限內(nèi),并可記錄歷史數(shù)據(jù)用于統(tǒng)計(jì)過程控制(SPC)。如果發(fā)現(xiàn)粗糙度超標(biāo),可以及時(shí)反饋調(diào)整磨削工藝參數(shù)。


案例二:半導(dǎo)體晶圓薄膜厚度均勻性檢查
  • 場(chǎng)景:在半導(dǎo)體制造中,一片晶圓上沉積的二氧化硅薄膜厚度需要控制在100nm ± 5nm,且要求整片均勻性良好。


  • 應(yīng)用:工藝工程師在沉積后,選取測(cè)試晶圓(或產(chǎn)品晶圓上的測(cè)試圖形區(qū)域)。在薄膜邊緣或特定測(cè)試結(jié)構(gòu)上,存在一個(gè)清晰的臺(tái)階,裸露了下層硅襯底。使用S lynx2,選擇干涉模式和高倍物鏡(如50X),精確掃描這個(gè)臺(tái)階區(qū)域。


  • 分析與結(jié)果:軟件自動(dòng)識(shí)別臺(tái)階的上下表面,并計(jì)算出精確的臺(tái)階高度,即薄膜厚度。通過在晶圓上選擇多個(gè)點(diǎn)位(如中心、左、右、上、下)進(jìn)行測(cè)量,可以快速評(píng)估薄膜厚度的平均值和均勻性(厚度變化范圍)。這些數(shù)據(jù)用于監(jiān)控沉積設(shè)備的穩(wěn)定性。


案例三:新材料涂層研發(fā)與性能關(guān)聯(lián)分析
  • 場(chǎng)景:研發(fā)人員開發(fā)一種新的耐磨涂層,希望研究不同噴涂工藝參數(shù)(如噴涂壓力、距離)對(duì)涂層表面形貌和耐磨性的影響。


  • 應(yīng)用:制備多組不同工藝參數(shù)下的涂層樣品。使用S lynx2的共聚焦模式(因?yàn)橥繉颖砻嫱ǔ槁瓷洌y(cè)量各組樣品的表面三維形貌。然后,對(duì)所有樣品進(jìn)行標(biāo)準(zhǔn)化的摩擦磨損試驗(yàn)。


  • 分析與結(jié)果:對(duì)磨損前后的表面分別進(jìn)行測(cè)量。通過軟件計(jì)算磨損區(qū)域的體積損失,量化耐磨性。同時(shí),分析磨損前原始表面的三維粗糙度參數(shù)(如Sa, Sz)和功能參數(shù)(如表面支承面積比曲線)。將表面形貌參數(shù)與磨損體積數(shù)據(jù)進(jìn)行關(guān)聯(lián)分析,可以發(fā)現(xiàn)例如“適中的Sa值和較高的核心材料比可能對(duì)應(yīng)更好的耐磨性"等規(guī)律,從而指導(dǎo)優(yōu)化噴涂工藝參數(shù)。


案例四:顯示屏面板缺陷檢測(cè)與分類
  • 場(chǎng)景:觸摸屏面板制造商需要檢測(cè)ITO(氧化銦錫)導(dǎo)電線路上的缺陷,如劃痕、凹坑或異物。


  • 應(yīng)用:將面板樣品置于S lynx2下,用低倍物鏡(如5X)快速掃描定位可疑區(qū)域,再切至高倍物鏡(如20X或50X)進(jìn)行精細(xì)測(cè)量。對(duì)于光滑的ITO表面,可采用白光干涉模式。


  • 分析與結(jié)果:獲得缺陷區(qū)域清晰的三維形貌。可以精確測(cè)量劃痕的深度和寬度、凹坑的深度和直徑、異物的高度和尺寸。根據(jù)這些量化數(shù)據(jù),可以對(duì)缺陷進(jìn)行自動(dòng)或手動(dòng)的分類(如輕微劃痕、嚴(yán)重凹坑等),判斷是否超出接受標(biāo)準(zhǔn),并追溯缺陷產(chǎn)生的可能工序。


案例五:微光學(xué)元件陣列形貌驗(yàn)證
  • 場(chǎng)景:生產(chǎn)微透鏡陣列用于光束勻化,每個(gè)微透鏡的曲率半徑和高度一致性對(duì)光學(xué)性能至關(guān)重要。


  • 應(yīng)用:使用S lynx2的高倍物鏡(如50X)測(cè)量單個(gè)微透鏡,或使用大范圍拼接功能測(cè)量整個(gè)陣列。選擇適合透明聚合物或玻璃材料的測(cè)量模式(可能需要調(diào)整光源和參數(shù))。


  • 分析與結(jié)果:三維形貌圖清晰顯示每個(gè)微透鏡的球冠形狀。利用軟件中的“球面擬合"或“曲面擬合"工具,可以自動(dòng)計(jì)算每個(gè)透鏡的曲率半徑和矢高(高度)。軟件可對(duì)陣列中多個(gè)透鏡的測(cè)量結(jié)果進(jìn)行統(tǒng)計(jì)分析,計(jì)算平均值、標(biāo)準(zhǔn)差、極差,驗(yàn)證加工的一致性和是否符合設(shè)計(jì)公差。


這些案例展示了S lynx2如何將表面的微觀形貌轉(zhuǎn)化為具體的、可量化的數(shù)據(jù),服務(wù)于質(zhì)量控制、工藝監(jiān)控、研發(fā)優(yōu)化和失效分析等多個(gè)具體場(chǎng)景,幫助用戶做出基于數(shù)據(jù)的判斷和決策。

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